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Bienvenue dans la collection HAL du groupe SCIPRA : Sciences et Ingénierie des Plasmas Réactifs et des Arcs
La démarche scientifique de notre équipe consiste à étudier l’ensemble de la chaîne d’un procédé plasma hors-équilibre depuis la source d’énergie jusqu’à la propriété finale du matériau élaboré/modifié en passant par la physico-chimie en phase plasma et l’interaction plasma-surface. Une spécificité importante et assez unique de l’équipe est d’exploiter un panel de réacteurs plasma couvrant un large champ d’exploration, de la basse pression (BP) (mTorr) jusqu’à la pression atmosphérique (PA) et des basses fréquences (quelques kHz) jusqu’aux microondes. Pour plus d'informations sur nos recherches
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Plasma process
Fn
Space charge
Aeronautic cable
Adhesion strength
Silicon oxynitride layers
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SAB
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Nanomaterials
Barium oxide BaO
DBD
Plasma deposition
Silver
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Silice
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Biocide effect
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Plasma processes
Aiguilleur de courant
Thin films
Pulsed gas injection
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Dielectric recov- ery
MHD modeling
Atmospheric pressure
Aerosols Pulsed Direct Liquid Injection Plasma Deposition Safer-by-design
Silver nanoparticles
Aerosol-assisted process
MHD Simulation
Ag nanoparticles
Thin film coating
Nanoparticules d'argent
3D step coverage
Adhesives
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Silver vapors
Silicon oxides
Dielectric
Electrical characteristics
AgNPs multifunctionality
Aerosol
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Metal oxide
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Nanoparticles
Atmospheric pressure plasma deposition
Adsorption
Plasma
Astrochemistry
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Aerosol-assisted atmospheric pressure plasma
Break- ers
Dielectric barrier discharge
BFGS Quasi Newton algorithm
AgNPs
Nanostructured dielectrics
2T
Aerosol-Assisted Plasma Deposition
Adhesion mechanisms
Charge injection
Barrière diélectrique
Couches minces
Arc tracking
AFM
Laboratory astrophysics
RF MEMS capacitive switches
Pulsed Direct Liquid Injection
Plasmas
Candida albicans
Proteins
Aerosols
SiO2
Atmospheric Pressure Plasma Processes
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Arc électrique
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Optical emission spectroscopy
Breakdown
Safer-by-design
AgNPs charge trapping electroluminescence nanostructured dielectrics plasma processes tailored interfaces
Dust
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